Shiseido Future Solution LX Extra Rich Cleansing Foam
125 ml
2 107,20 zł / 1 l 1 896,48 zł / 1 l
z VAT
263,40 zł
Darmowa dostawa
Czas dostawy z GLS wt. 27.10 do czw. 29.10
Do 2 darmowych próbek do każdej paczki
Darmowa zwrot do 180 dniPianka Future Solution LX Extra Rich Cleansing Foam od Shiseido, japońskiej marki z tradycją sięgającą 1872 roku, oferuje luksusowe oczyszczanie na każdy dzień. Gdy tylko pianka wejdzie w kontakt z wodą, tworzy bogatą i kremową konsystencję. Delikatnie usuwa codzienne zanieczyszczenia, pozostałości makijażu i nadmiar sebum, nie naruszając naturalnej równowagi nawilżenia skóry. Pozostaje przyjemne uczucie gładkiej skóry bez uczucia ściągnięcia. Formuła wzbogacona jest o wyselekcjonowane japońskie ekstrakty roślinne, takie jak zioło Enmei, kwiat wiśni i róża Hamanasu. Ta kompozycja może wspierać naturalny blask skóry, a także optymalnie przygotowuje ją do kolejnych zabiegów pielęgnacyjnych. Pianka oczyszczająca jest odpowiednia dla wszystkich rodzajów skóry, testowana dermatologicznie i niekomedogenna.
- Kremowa pianka oczyszczająca do delikatnego usuwania zanieczyszczeń i makijażu .
- Wzbogacona wyselekcjonowanymi japońskimi ekstraktami roślinnymi.
- Pozostawia skórę przyjemną w dotyku i gładką.
- Optymalnie przygotowuje skórę do dalszej pielęgnacji.
nazwa
Extra Rich Cleansing FoamLinia
Future Solution LXLinia
Linie do pielęgnacji twarzyNr art.
1216478Zastosowanie
twarzcecha
nawilżający, oczyszczający, pielęgnującyKonsystencja
piankaTyp produktu
tubka
･ Zwilżyć twarz i nałożyć około 1 cm na dłoń. Wymieszać z niewielką ilością zimnej lub letniej wody, aby uzyskać obfitą pianę. Przetrzyj twarz, aby ją oczyścić.
Dokładnie spłukać.
･ Aby użyć jako odżywczej maseczki, nałóż bogatą pianę, omijając oczy i usta.
･ Obficie spienić i nałożyć piankę tak, aby przylegała do podatnej na przetłuszczanie się strefy T, a następnie do okolic nosa.
Nałożyć maskę piankową na podatną na przetłuszczanie strefę T i nos.
･ Oczyść policzki, używając pianki jako bazy i wmasuj ją delikatnymi okrężnymi ruchami.
Masuj strefę T i obszar nosa, gdzie wcześniej nałożyłaś piankową maskę, palcami, wykonując małe okrężne ruchy, aby dokładnie oczyścić.
(Zakończ ten krok po 30 sekundach, aby uniknąć nadmiernego tarcia).
･ Rozprowadź piankę na twarzy i dokładnie spłucz.
Jeśli poczujesz dyskomfort, usuń produkt ze skóry.
? Unikać bezpośredniego kontaktu z oczami. W przypadku kontaktu dokładnie przepłukać oczy wodą. ? Przechowywać w miejscu niedostępnym dla dzieci. ? Przechowywać z dala od bezpośredniego światła słonecznego i wysokich temperatur. ? Po użyciu należy dokładnie zamknąć nasadkę.
- SHISEIDO EUROPE
- 56/A, RUE DU FAUBOURG SAINT-HONORE, FR-75008 PARIS
- https://corp.shiseido.com/en/scp/inquiry/mail/form.php
Nasi klienci mówią o Future Solution LX
