Shiseido Future Solution LX Extra Rich Cleansing Foam

Dzięki Shiseido Extra Rich Cleansing Foam z serii Future Solution LX możesz oczyścić i rozpieszczać swoją skórę w luksusowy sposób. Delikatna pianka oczyszczająca dla wszystkich rodzajów skóry otula skórę i delikatnie usuwa makijaż i zanieczyszczenia. Dzięki cennym składnikom utrzymuje odpowiedni poziom nawilżenia skóry. Luksusowa formuła zawiera również ekstrakt z liści sakury, który hamuje degradację elastyny, a tym samym poprawia funkcjonowanie komórek skóry. Rezultatem jest gładka, miękka, świeża skóra, która jest doskonale przygotowana do dalszej pielęgnacji i może lepiej wchłaniać składniki aktywne zawarte w produktach do pielęgnacji skóry.

Sposób użycia produktu oczyszczającego Future Solution LX

Rozetrzeć w dłoniach niewielką ilość pianki Shiseido Extra Rich Cleansing Foam z wodą, a następnie nałożyć na zwilżoną twarz. Twarz oczyszcza się delikatnymi, okrężnymi ruchami, a następnie delikatną piankę spłukuje się dużą ilością letniej wody. Podczas aplikacji należy omijać okolice oczu. Preparat oczyszczający należy stosować regularnie rano i wieczorem.

WATER(AQUA/EAU), MYRISTIC ACID, GLYCERIN, STEARIC ACID, POTASSIUM HYDROXIDE, SORBITOL, DIPROPYLENE GLYCOL, LAURIC ACID, PEG-20 GLYCERYL ISOSTEARATE, PEG-6, PEG-32, SODIUM METHYL COCOYL TAURATE, GLYCOL DISTEARATE, GLYCERYL STEARATE SE, POLYQUATERNIUM-7, FRAGRANCE (PARFUM), TRISODIUM EDTA, SODIUM METHYLTAURATE, BUTYLENE GLYCOL, LINALOOL, CITRONELLOL, SODIUM METABISULFITE, PRUNUS SPECIOSA LEAF EXTRACT, IRON OXIDES (CI 77492), IRON OXIDES (CI 77491),